ICC訊 您是否正在尋找提升光電子芯片設(shè)計效率的解決方案?您想了解最新的薄膜鈮酸鋰技術(shù)進展嗎?南智光電與逍遙科技誠摯邀請您參加這場不容錯過的線上技術(shù)盛宴!
南智光電薄膜鈮酸鋰PDK1.0器件性能介紹
(圖片來源:南智光電官網(wǎng))
PIC Studio套件中基于南智光電PDK進行設(shè)計的示例演示
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南智光電TFLN流片說明
1.南智光電提供多種流片服務(wù)介紹
南智光電支持多項目晶圓(MPW)模式、全掩膜(Full Mask)模式、EBL工藝模式。客戶可以根據(jù)自己的具體需求、預(yù)算以及項目階段選擇合適的流片模式。
南智光電提供的這些服務(wù)選項,為客戶提供了靈活多樣的選擇,有助于推動科技創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)升級。同時,南智光電的專業(yè)團隊和先進設(shè)備也能保證流片過程的高質(zhì)量和高效率,滿足客戶的多樣化需求。
(圖片來源:南智光電官網(wǎng))
2.南智光電 MPW流片班次I版圖提交截止日期
3.南智光電PDK 申請
PDK申請鏈接:https://latitudeda.com/solution/pdk/pdkSupport
報名須知
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聯(lián)系人:向經(jīng)理
郵箱:xiangyanjing@latitudeda.com
PIC Studio
PIC Studio解決方案包含以下核心組件:
PhotoCAD: 高效的版圖設(shè)計工具,支持組件布局、光程匹配、自動繞線等功能。
pSim: 強大的原理圖與鏈路仿真工具。
pSim Plus: 系統(tǒng)級仿真工具,支持光電融合仿真,包括非線性光纖、DSP、TDECQ分析、與Matlab聯(lián)合仿真等高級功能。在pSim Plus階段,設(shè)計師可以進行系統(tǒng)級異質(zhì)集成設(shè)計和仿真,充分利用不同工藝平臺的優(yōu)勢。pSim Plus還支持調(diào)制器建模以及帶寬建模,其中電極模型可基于物理模型、量測數(shù)據(jù)或RLC等效電路,無需調(diào)用額外的spice仿真器。
Advanced SDL: 實現(xiàn)原理圖驅(qū)動版圖生成(SDL)和版圖生成原理圖(LDS)的雙向轉(zhuǎn)換。
pMaxwell: 電磁仿真工具,支持RCWA和FDTD等多種算法。
南智光電
南智光電成立于2018年4月,由南京江北新區(qū)、江蘇產(chǎn)研院與南京大學及祝世寧院士團隊共建,系江蘇省光電技術(shù)創(chuàng)新中心建設(shè)單位。南智光電主要開展光學微納結(jié)構(gòu)器件制造、異質(zhì)集成光電芯片、光電子封裝測試和光電集成設(shè)計等方向的技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)業(yè)孵化和賦能投資。南智光電擁有4000平米潔凈產(chǎn)線,價值數(shù)億元微納加工、檢測設(shè)備,致力于建成“薄膜鈮酸鋰+X”(X代表硅、化合物半導(dǎo)體、低維材料等)異質(zhì)集成共性技術(shù)平臺,為光電企業(yè)、高校院所提供光電芯片及器件研制、開發(fā)和制備服務(wù)。
新聞來源:逍遙科技
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