突發(fā)！荷蘭升級光刻機管制！ 商務部回應！

  ICC訊  荷蘭政府頒布了限制某些先進半導體設備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于9月1日生效!

  在荷蘭政府限制出口的消息傳出后，光刻機巨頭ASML第一時間在官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng))時，將需要向荷蘭政府申請出口許可證。

  而荷蘭政府將決定是否批準或拒絕所需的出口許可證，并就任何適用的條件向阿斯麥提供進一步的細節(jié)。

  ASML強調(diào)，這些新的出口管制條例針對對象為先進的芯片制造技術(shù)，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，并非所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。ASML表示其EUV光刻系統(tǒng)在此前已經(jīng)受到限制。ASML其他系統(tǒng)的發(fā)運未受荷蘭政府管控。

  商務部：中方對此堅決反對

  據(jù)商務部官網(wǎng)消息，有記者問，6月30日，荷蘭宣布將部分光刻機等半導體相關產(chǎn)品納入出口管制。中方對此有何評論?

  對此，商務部新聞發(fā)言人表示，中方注意到相關報道。近幾個月以來，中荷雙方就半導體出口管制問題開展了多層級、多頻次的溝通磋商。但荷方最終仍將相關半導體設備列管，中方對此表示不滿。近年來，美國為維護自身全球霸權(quán)，不斷泛化國家安全概念，濫用出口管制措施，甚至不惜犧牲盟友利益，脅迫拉攏其他國家對中國實施半導體打壓圍堵，人為推動產(chǎn)業(yè)脫鉤斷鏈，嚴重損害全球半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，中方對此堅決反對。

  商務部新聞發(fā)言人強調(diào)，荷方應從維護國際經(jīng)貿(mào)規(guī)則及中荷經(jīng)貿(mào)合作大局出發(fā)，尊重市場原則和契約精神，避免有關措施阻礙兩國半導體行業(yè)正常合作和發(fā)展，不濫用出口管制措施，切實維護中荷企業(yè)和雙方共同利益，維護全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。