西門子攜手格羅方德提供值得信賴的硅光子驗證

  ICC訊 近日，西門子數(shù)字行業(yè)軟件(Siemens Digital Industries Software)宣布其Calibre® nmPlatform 可以幫助設計人員使用格羅方德(GF)最新硅光子平臺。GF的下一代、單片平臺，即Fotonix ?是行業(yè)首個結合具有差異化光子學和RF-CMOS 300mm硅晶圓，可在大規(guī)模應用上提供一流水平的性能。

  GF Fotonix工藝設計套件(PDK)包括西門子面向工藝檢查(DRC)的Calibre® nmDRC軟件和針對布局與示意圖(LVS)驗證的Calibre® nmLVS軟件。兩個工具均已獲得GF的全面認證，因此為GF Fotonix設計的共同客戶可以在硅光子器件上繼續(xù)使用深受信賴的Calibre nmPlatform，就像他們在以前產品中使用的那樣。

Siemens' Calibre® nmPlatform now enables designers to leverage the newest GlobalFoundries (GF) silicon photonics platform.

  西門子Calibre設計方案產品管理副總裁Michael Buehler-Garcia表示：“隨著新興的硅光子市場不斷擴大，西門子EDA很高興可以聯(lián)合GF拓展我們在這塊領域的共同方案。雖然硅光子設計及其隨后納入多芯片產品引入了新的驗證復雜性，但這些復雜性已在Calibre硅光子設計套件中被成功解決，無需改變設計人員的Calibre使用方式?！?

  GF Fotonix 通過將光子系統(tǒng)、射頻 (RF) 組件和高性能互補金屬氧化物半導體 (CMOS) 邏輯組合在一個硅芯片上，將以往分布在多個芯片上的復雜工藝整合到一個芯片里。

  格羅方德客戶設計導入高級副總裁Mike Cadigan表示：“我們與西門子EDA的合作是GF攜手業(yè)界領先伙伴為客戶提供產品上市時間提供解決方案，驅動創(chuàng)新的一個重要案例。西門子用于設計驗證和流片后操作的Calibre工具與GF Fotonix解決方案相結合，可以幫助設計人員高效地發(fā)展下一代數(shù)據(jù)中心、計算和傳感應用。”

  硅光子技術可以在集成電路上部署光學元件，然而硅光子器件需要彎曲布局，而非傳統(tǒng)CMOS設計的線性網(wǎng)格特征(曼哈頓式)，將傳統(tǒng)CMOS DRC應用在硅光子布局會產生大量錯誤，這使得設計團隊需要花費數(shù)周時間進行跟蹤。為了應對這個難題，格羅方德利用西門子Calibre eqDRC? 軟件，該軟件允許工藝檢查使用方程來代替或補充線性測量，以獲得更準確的結果并顯著減少錯誤，設計團隊只需花費更少的時間和更少的資源來優(yōu)化他們的電路設計 。

  相似的是，由于光子結構的曲線特性，加上普遍缺乏的光學源表，在執(zhí)行LVS檢查時會面臨挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)的IC LVS技術從電子結構中提取物理測量值，并將它們與源表中預期的相應元素進行比較。然而，對于彎曲結構，即使不是不可能，但也很難辨別一個結構從哪里開始，另一個結構在哪里結束。使用帶有Calibre LVS的新GF Fotonix PDK，通過使用文本和標記層來識別針對區(qū)域以解決這個障礙。

  硅光子器件通常在特定工藝節(jié)點單個裸片中實現(xiàn)，然后使用先進的異質封裝技術與多個裸片中的其余設計組件堆疊和封裝。通過使用完整的核心Calibre產品，可以大大縮短總驗證周期時間。