SK海力士二季度凈利潤(rùn)翻倍 疫情推高服務(wù)器存儲(chǔ)芯片需求

  ICC訊 7月23日消息，韓國(guó)第二大芯片制造商SK海力士發(fā)布財(cái)報(bào)稱(chēng)，第二季度凈利潤(rùn)增長(zhǎng)逾一倍，從上年同期的5370.3億韓元增至1.264萬(wàn)億韓元(約合10.6億美元)，超過(guò)市場(chǎng)預(yù)期，得益于存儲(chǔ)芯片需求和價(jià)格的穩(wěn)健。

  營(yíng)收增長(zhǎng)33%，至8.607萬(wàn)億韓元。營(yíng)業(yè)利潤(rùn)增長(zhǎng)逾兩倍，至1.947萬(wàn)億韓元。SK海力士表示，疫情期間數(shù)據(jù)服務(wù)器中使用的內(nèi)存芯片的強(qiáng)勁需求抵消了移動(dòng)設(shè)備芯片需求的疲軟。

  SK海力士表示，有望將其應(yīng)用于Exascale超級(jí)計(jì)算機(jī)(一種高性能計(jì)算系統(tǒng)，每秒可以執(zhí)行五百億次計(jì)算)，它將引領(lǐng)下一代基礎(chǔ)和應(yīng)用科學(xué)的研究，例如氣候變化，生物軍醫(yī)和太空探索。

  SK海力士執(zhí)行副總裁兼首席營(yíng)銷(xiāo)官(JMO)JonghoonOh說(shuō)：“SK海力士一直走在技術(shù)創(chuàng)新的最前沿，為人類(lèi)文明做出了貢獻(xiàn)，取得了包括世界上第一個(gè)HBM產(chǎn)品開(kāi)發(fā)在內(nèi)的成就?！薄半S著HBM2E的大規(guī)模量產(chǎn)，我們將繼續(xù)加強(qiáng)我們?cè)诟叨舜鎯?chǔ)器市場(chǎng)的影響力，并領(lǐng)導(dǎo)第四次工業(yè)革命?！?

  7月21日消息，SK海力士正計(jì)劃在M16工廠(chǎng)引入EUV光刻機(jī)。在進(jìn)入20nm節(jié)點(diǎn)之后，內(nèi)存工業(yè)也面臨著CPU工藝一樣的制造難題，微縮越來(lái)越困難，制造工藝復(fù)雜，導(dǎo)致內(nèi)存成本居高不下。如今7nm以下的處理器用上了EUV光刻機(jī)，內(nèi)存很快也要跟進(jìn)了，SK海力士計(jì)劃在韓國(guó)M16工廠(chǎng)引入EUV工藝。

  與目前大量在用的DUV光刻相比，EUV光刻機(jī)可以減少多重曝光工藝，提供工藝精度，從而可以減少生產(chǎn)時(shí)間、降低成本，并提高性能。

  內(nèi)存用上EUV工藝之后，內(nèi)存顆粒的制造成本理論上是會(huì)下降的，這也為內(nèi)存降價(jià)奠定基礎(chǔ)，不過(guò)EUV初期來(lái)說(shuō)就很難了，因?yàn)镋UV光刻機(jī)售價(jià)將近10億元人民幣，新建EUV產(chǎn)線(xiàn)的成本是非常高的，需要時(shí)間消化。

  據(jù)韓國(guó)媒體報(bào)道，SK海力士已經(jīng)成立了專(zhuān)門(mén)的研究小組攻克EUV工藝，從去年就開(kāi)始投資EUV中可能用到的TF材料，相關(guān)研究由副總裁鄭泰佑負(fù)責(zé)，他是蝕刻技術(shù)的專(zhuān)家，曾參與SK海力士首個(gè)10nmDRAM“Arius”的開(kāi)發(fā)項(xiàng)目以及下一代NAND閃存的研發(fā)。

  SK海力士也在推進(jìn)建設(shè)EUVDRAM內(nèi)存生產(chǎn)線(xiàn)的建設(shè)，預(yù)計(jì)在韓國(guó)利川市的M16工廠(chǎng)中開(kāi)始引入。