中芯國(guó)際的尷尬：地道中國(guó)企業(yè) 為華為代工芯片卻要美國(guó)同意

      ICC訊 眾所周知，中芯國(guó)際是中國(guó)大陸規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)的芯片制造企業(yè)，也是全球排名第5的芯片代工企業(yè)，目前的技術(shù)是14nm芯片工藝。

      但最近中芯國(guó)際卻遇到了一件非常尷尬的事情，明明自己是一家地地道道的中國(guó)企業(yè)，也不存在外資控股的情況，但為華為代工芯片卻要美國(guó)同意，你說尷尬不尷尬？

      按照之前中芯國(guó)際招股書上的說法，“若干自美國(guó)進(jìn)口的半導(dǎo)體設(shè)備與技術(shù)，在獲得美國(guó)商務(wù)部行政許可之前，可能無法用于為若干客戶的產(chǎn)品進(jìn)行生產(chǎn)制造?！?

      其實(shí)從這句話，大家就能夠理解了，原因在于中芯國(guó)際使用了很多美國(guó)的半導(dǎo)體設(shè)備和技術(shù)，而美國(guó)要求任何使用美國(guó)技術(shù)和設(shè)備的廠商，為華為生產(chǎn)芯片時(shí)，都需要美國(guó)的許可，那么中芯國(guó)際自然也包括在內(nèi)了。

      那么對(duì)于中芯國(guó)際而言，怎么解決這個(gè)問題？那就是不用美國(guó)的設(shè)備和美國(guó)的技術(shù)，但從現(xiàn)在的情況來看是非常難的。

      從半導(dǎo)體設(shè)備來看，美國(guó)廠商占了全球50%左右的份額，尤其是在在沉積、刻蝕、離子注入、CMP、勻膠顯影這些領(lǐng)域，美國(guó)的應(yīng)用材料、泛林處于絕對(duì)的優(yōu)勢(shì)地位，無法被取代。

      而中芯國(guó)際也從應(yīng)用材料、泛林大量采購了設(shè)備。此外，在光刻機(jī)方面，雖然不是產(chǎn)自美國(guó)，但ASML也聽美國(guó)的話。

      而從其它技術(shù)來看，中芯國(guó)際也大量使用了美國(guó)EDA巨頭的產(chǎn)品，而國(guó)產(chǎn)EDA也無法替代。導(dǎo)致中芯國(guó)際明明是一家中國(guó)企業(yè)，最后要聽美國(guó)的話。

      可見，要想芯片真正的不受控，唯有一個(gè)辦法，那就是全面的去美化，從上游到下游，要實(shí)現(xiàn)整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈去美化，雖然這個(gè)難度大到無法想象，但被逼之下，也不得不如此了。