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CIOE 2024專訪斑巖光子:引領光子集成技術革新,助力AI算力發(fā)展

摘要:斑巖光子在CIOE2024展會上展示了基于磷化銦材料的高速EML激光器、相干光芯片等創(chuàng)新產(chǎn)品。公司核心團隊長期專注于光子集成芯片開發(fā),其400G/800G EML技術推動了光模塊集成發(fā)展。斑巖光子的差異化高速EML芯片滿足了數(shù)據(jù)中心AI算力的需求,并在光子集成技術方面保持領先。公司正與合作伙伴共同推進異質(zhì)集成技術的研究,致力于創(chuàng)新和多元化產(chǎn)品線的開發(fā)。

  ICC 2024年9月11-13日,CIOE2024于深圳國際會展中心(寶安新館)盛大開幕。先進光集成制造企業(yè)——深圳市斑巖光子技術有限公司(以下簡稱“斑巖光子”,或“公司”)攜一系列創(chuàng)新解決方案及產(chǎn)品亮相展位12D25。ICC訊石有幸對話斑巖光子吳博士,對斑巖光子進行了專訪,以下為關于本次專訪的主要內(nèi)容。

  斑巖光子核心團隊長期從事光子集成芯片開發(fā),實現(xiàn)了基于磷化銦(InP)材料平臺的高速EML激光器、相干光芯片及多通道集成芯片等產(chǎn)品的設計與制造,憑借多年高端光芯片技術沉淀,逐漸成為國內(nèi)高端光芯片領域的寶貴資產(chǎn)。

  創(chuàng)新400G/800G EML技術,推動光模塊集成發(fā)展。

  在本屆CIOE展會上,斑巖光子將重點展示400G/800G應用的EML。吳博士介紹到,斑巖EML采用特色集成平臺,一次外延降低了缺陷,有利于良率和可靠性提升。在此平臺上斑巖開發(fā)了25GBaud、50GBaud和100GBaud EML,相關EML的各種應用可以聯(lián)系斑巖光子具體了解。同時,斑巖相干接收機ICR芯片支持128G super C/super L/super C+L,主要應用于400G/800G相干光模塊,并將開始研發(fā)下一代256GBaud ICR芯片。另外,基于斑巖平臺可以設計更多集成方案,如高速EML陣列、高速DFB+MZ陣列和FTTR光集成芯片方案等,歡迎客戶及合作方聯(lián)系到斑巖,一起對上述方案作進一步完善及優(yōu)化。

  差異化高速EML芯片,滿足數(shù)據(jù)中心AI算力需求。

  當前,數(shù)據(jù)中心及AI算力對高速EML芯片有旺盛的需求。為此,斑巖光子完成了單波長100G EML研發(fā),目前產(chǎn)品處于客戶測試和應用導入階段,適用于TO/Box/CoB各種形式,支持100G/400G/800G單通道及多通道光模塊的應用。除上述主推產(chǎn)品外,斑巖光子在差異化設計上積極創(chuàng)新,于去年研發(fā)了LWDM波長200Gbps EML,并在此基礎上于今年研發(fā)出CWDM波長200Gbps EML,為1.6T光模塊的性能提升和準備工作奠定了基礎。斑巖光子的技術進展深刻體現(xiàn)了其在高端光芯片技術積累和產(chǎn)品創(chuàng)新方面的領先地位。

  AI算力推動數(shù)通技術革新,斑巖光子光子集成技術領先。

  吳博士指出,AI算力的快速發(fā)展正推動數(shù)通領域經(jīng)歷一場以高速度、大容量和低延遲為特征的技術革新,特別是在光子集成技術方面。AI算力的快速迭代及光連接使用規(guī)模為光子集成提供了應用空間,隨著應用的通道數(shù)增多,離散的光學器件走向集成是必然趨勢。盡管當前國內(nèi)在AI算力領域取得了顯著進展,推出了一系列亮點方案和后端光模塊產(chǎn)品。但與國際先進水平相比,國內(nèi)在InP集成度、異質(zhì)集成技術等方面仍有較大的提升空間。

  公司的技術平臺在光子集成領域具有顯著優(yōu)勢,特別是在大規(guī)模集成方面。公司的ICR芯片通過單片集成了數(shù)十個元器件,不僅實現(xiàn)了技術的領先,還推動了向256G波特率的高速率發(fā)展。在FTTR技術領域,針對低成本、小型化特點,公司縮小體積的單纖雙向光組件方案,并成功開發(fā)了原型器件。該方案通過在發(fā)送芯片上集成DFB激光器、波分復用器(Mux/DeMux)、光電探測器(MPD)及模板轉換器(SSC)等關鍵功能,實現(xiàn)了器件體積的減小和系統(tǒng)空間的有效利用。此外,斑巖光子還開發(fā)了多通道集成的原型芯片,并提出了多通道EML及多通道DFB+MZ的集成方案,創(chuàng)新的bias-T free方案不僅簡化了光模塊設計,還為與CPO(光電共封裝)技術的結合應用提供了可能性,展現(xiàn)了斑巖光子在推動光通信技術進步方面的重要作用。

  同時,斑巖光子緊跟異質(zhì)集成技術的快速發(fā)展步伐,利用不同材料的優(yōu)勢來設計和實現(xiàn)性能更優(yōu)的光子集成器件。公司正與多方科研和產(chǎn)業(yè)合作伙伴緊密協(xié)作,共同推進異質(zhì)集成技術的研究與開發(fā),以期在光子集成領域取得更多創(chuàng)新成果。

  展望未來,吳博士表示公司將緊跟世界前沿,致力于創(chuàng)新和多元化產(chǎn)品線的開發(fā)。未來將繼續(xù)基于磷化銦(InP)材料,努力提升斑巖在光子集成領域的技術實力。緊跟人工智能的浪潮,積極設計更具差異化的高速率產(chǎn)品。

ICC訊石(左一、右一)與斑巖光子吳博士(中間)留影

  關于斑巖光子



  斑巖光子成立于2020年5月,擁有世界一流的光子集成設計團隊,核心團隊從事光子集成芯片開發(fā)多年,實現(xiàn)了基于InP光子集成平臺的高速EML激光器、相干光子芯片等產(chǎn)品的設計與制造。斑巖光子是國內(nèi)首家提供200G PAM4 EML方案的企業(yè),實現(xiàn)國產(chǎn)化零的突破。斑巖采用4 inch晶圓以及單次外延工藝,可以低成本、高可靠性的實現(xiàn)光芯片量產(chǎn)。斑巖對EML設計也有獨特的理解,除了傳統(tǒng)的單端驅動EML,還創(chuàng)新性的開發(fā)了支持調(diào)制信號差分驅動EML。該差分EML芯片在短距數(shù)通應用中,可省去外置或者CDR/DSP集成的驅動芯片,有效降低成本及功耗;在長距傳輸應用則可使用差分驅動器實現(xiàn)高消光比/高帶寬。除此之外,差分EML還可以改善信號信噪比。

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