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2023光電子技術(shù)高峰論壇|分論壇一《通信光電子芯片與器件》圓滿舉辦

摘要:5月15日,由海思光電主辦,訊石信息承辦的2023光電子技術(shù)高峰論壇在武漢成功舉辦。其中,“通信光電子芯片與器件” 分論壇圍繞高性能光/電芯片的技術(shù)演進趨勢展開討論,探索高速光/電芯片的技術(shù)實現(xiàn)和產(chǎn)業(yè)趨勢,來自飛思靈、Lumentum、華中科技大學、傲科光電和中科院半導(dǎo)體研究所等機構(gòu)的技術(shù)專家及學者進行了深度的分析與探討。

  ICC訊    5月15日,由海思光電有限公司主辦,訊石信息咨詢承辦的2023光電子技術(shù)高峰論壇在武漢成功舉辦,本次大會匯聚了400多位光電子領(lǐng)域?qū)I(yè)人士,共同探討光電技術(shù)的演進趨勢,探索光聯(lián)接和光感知的新機遇。其中,“通信光電子芯片與器件” 分論壇圍繞高性能光/電芯片的技術(shù)演進趨勢展開討論,探索高速光/電芯片的技術(shù)實現(xiàn)和產(chǎn)業(yè)趨勢,來自飛思靈、Lumentum、華中科技大學、傲科光電和中科院半導(dǎo)體研究所等機構(gòu)的技術(shù)專家及學者進行了深度的分析與探討。

  曹權(quán) 武漢飛思靈光電產(chǎn)品線技術(shù)總監(jiān)

  武漢飛思靈光電產(chǎn)品線技術(shù)總監(jiān)曹權(quán)發(fā)表《下一代高速相干光電芯片和器件的發(fā)展趨勢和展望》報告,高速相干光技術(shù)具有更長的傳輸距離、更高的單纖容量以及高靈敏度的特點,被廣泛地應(yīng)用在長途傳輸應(yīng)用場景。當前200G光模塊已經(jīng)批量應(yīng)用,400G QPSK是未來幾年的應(yīng)用熱點。相干光器件面臨的主要挑戰(zhàn)包括超高帶寬、超寬波長范圍和低成本,混合材料平臺、智慧化設(shè)計與先進封裝架構(gòu)是相干光器件發(fā)展的新趨勢。

  馬廣鵬 Lumentum傳送產(chǎn)品線應(yīng)用工程總監(jiān)

  Lumentum傳送產(chǎn)品線應(yīng)用工程總監(jiān)馬廣鵬發(fā)表 《窄線寬光源的趨勢和技術(shù)演進》報告,從驅(qū)動力、可調(diào)原理、實現(xiàn)方法和發(fā)展趨勢等四個方面展開探討。帶寬的持續(xù)增長是可調(diào)光源發(fā)展的主要驅(qū)動力,密集波分從剛開始4/8/16波發(fā)展到后面的32/40/48/96以及現(xiàn)有的120波,加上高速相干應(yīng)用的引入和基于ROADM的業(yè)務(wù)調(diào)度需求,快速可調(diào)窄線寬可調(diào)光源必不可少。

  夏金松 華中科技大學教授

  華中科技大學夏金松教授發(fā)表《薄膜鈮酸鋰光子集成的進展》報告,薄膜鈮酸鋰光子集成芯片是實現(xiàn)高性能芯片自主可控的重要機遇。薄膜PPLN波導(dǎo)在AOWC應(yīng)用的優(yōu)勢,包括小尺寸、超大光學帶寬和低噪聲系數(shù)等。而薄膜PPLN面臨的挑戰(zhàn),主要是如何實現(xiàn)低成本的大規(guī)模制備工藝,尤其是采用DUV光刻制備LNOI光器件。

  曹建光 傲科光電市場發(fā)展總監(jiān)

  傲科光電市場發(fā)展總監(jiān)曹建光發(fā)表《128GB相干光通信關(guān)鍵技術(shù)》報告,伴隨著DCI應(yīng)用和高速相干模塊的發(fā)展,相干技術(shù)成為應(yīng)用場景更為廣闊的技術(shù)選擇?;谙喔杉夹g(shù)的通信鏈路具有高靈敏度、色散不受限、更長傳輸距離的優(yōu)點。針對800G的應(yīng)用,TFLN具有低插損和帶寬大的優(yōu)勢,但同時也面臨不能集成PD和不能收發(fā)集成等挑戰(zhàn)。

  李明團隊謝毓俊博士 中科院半導(dǎo)體研究所

  中科院半導(dǎo)體所研究員李明團隊 謝毓俊博士發(fā)表《高速光通信器件建模及光電系統(tǒng)仿真應(yīng)用》報告,重點介紹了多種光子器件的多種模型建模仿真等,包括MZM、Ge/Si PD以及光柵耦合器等。

  甘甫烷 中科院上海微系統(tǒng)所研究員

  中科院上海微系統(tǒng)所研究員 甘甫烷發(fā)表《硅基光調(diào)制器發(fā)展研究》報告,如今蓬勃發(fā)展的數(shù)據(jù)需求使高度集成的光電芯片進入前所未有的發(fā)展舞臺。硅基光子技術(shù)是可以大規(guī)模實現(xiàn)光子集成的一個優(yōu)良技術(shù)平臺,能提供高帶寬、低功耗、小尺寸的硅基調(diào)制技術(shù),可以適用于單波長200Gbps技術(shù)、共封裝光學(CPO)、以及近期產(chǎn)業(yè)熱點可插拔線性驅(qū)動應(yīng)用(LPO)。

  祁楠團隊李樂良博士 中國科學院半導(dǎo)體研究所

  中科院半導(dǎo)體所研究員祁楠團隊 李樂良博士發(fā)表《CMOS工藝兼容的硅基光電集成互連芯片設(shè)計》報告,光互連芯片應(yīng)用前景明朗,網(wǎng)絡(luò)芯片光接口和計算芯片光接口新型應(yīng)用為光互連芯片帶來更大的應(yīng)用空間?;贑MOS工藝的光電集成互連芯片可實現(xiàn)高帶寬密度、高能耗效率。芯片光接口開展光電融合集成芯片研究,可以形成從芯片-器件-系統(tǒng)的完整光電融合理論體系,突破光路與電路的協(xié)同設(shè)計技術(shù)。

  畢曉君 華中科技大學教授

  華中科技大學畢曉君教授發(fā)表《高性能硅基高速電芯片》報告,當前業(yè)界聚焦快響應(yīng)TIA/CDR和高波特率TIA/Driver,包括高動態(tài)范圍TIA和突發(fā)模式PAM4 CDR。當前高速電路的帶寬已經(jīng)接近硅晶體管支撐的極限, 為立足現(xiàn)有工藝水平,提高電路速率,驅(qū)動放大器提出分布式基極反饋線性化結(jié)構(gòu),在維持低諧波失真的同時大幅提高增益帶寬積,可將驅(qū)動放大器的速率從業(yè)界最高的64 GBaud大幅提高至130 GBaud。

  總 結(jié)

  眾所周知,決定光模塊性能關(guān)鍵在于底層的光/電芯片。本次“通信光電子芯片與器件”分論壇重點討論了光電芯片的系統(tǒng)需求和技術(shù)研究熱點,展望了高性能光電芯片技術(shù)的未來演進。

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