英特爾Fab34光刻設備move in

  ICC訊  1月20日消息，位于愛爾蘭的Intel Fab 34晶圓廠迎來重要時刻：一臺光刻設備緩緩進入工廠，這也是該廠的第一臺巨型芯片制造工具。該設備來自Intel美國俄勒岡州工廠，搭乘飛機越過大西洋，來到了愛爾蘭。

  這臺設備將與EUV極紫外掃描儀搭檔，首先為硅晶圓覆上精密的涂層，然后進入EUV掃描儀，進行曝光，接著晶圓回到光刻設備，再進行一系列的高精密光顯影、清理操作。

  一座典型的晶圓廠包含大約1200臺先進制造設備，大部分價值都在百元美元級別。

  Intel Fab 34晶圓廠2019年動工建設，計劃2023年正式投產(chǎn)，將會把Intel在愛爾蘭的產(chǎn)能翻一番，并為未來生產(chǎn)Intel 4工藝鋪平道路——嚴格來說是Intel 7nm，但是官方重新命名，認為它可以媲美行業(yè)4nm水平。

  官方透露，新工藝研發(fā)進展順利，芯片測試已經(jīng)完美通過，SRAM、邏輯單元、模擬單元都符合規(guī)范，去年第二季度還早早完成了Meteor Lake計算單元模塊的流片。

  Intel現(xiàn)階段正在全球建設、升級晶圓廠，除了愛爾蘭還有美國本土的亞利桑那州、新墨西哥州、俄勒岡州，以及馬來西亞，投資上百億美元，很快還會宣布在歐洲、美國的更多晶圓廠建設計劃。