中科院研制成功兩類高線密度鈦特征線波帶片

 
    近日，中國科學院高能物理研究所同步輻射室與有關(guān)單位合作研制成功了兩種類型的高線密度鈦特征線波帶片。

    在X射線波段，各種材料的折射率均接近或小于1，常規(guī)的折射光學元件將無法使用，必須采用高線密度的波帶片元件來實現(xiàn)X射線波段的聚焦、成像和色散。波帶片的概念早在1871年就被Rayleigh發(fā)明，然而受制于微細加工技術(shù)能力，100多年來其應用一直受到極大限制。近二十年來得益于集成電路微細加工技術(shù)的迅猛發(fā)展，國際上許多新概念X射線衍射光學元件不斷被提出和實現(xiàn)。

    同步輻射專用運行期間，一些長期困擾該技術(shù)發(fā)展和應用的技術(shù)難題，如高線密度波帶片微光刻圖形數(shù)據(jù)處理、復雜圖形的X射線掩模電子束光刻、深亞微米圖形電鍍、X射線曝光等問題得到解決 。在此基礎(chǔ)上，同步輻射X射線光刻站研究人員采取有效技術(shù)措施，成功實現(xiàn)了波帶片圖形特征尺寸精確控制，最終研制成功兩種類型的高線密度鈦特征線波帶片。

　　同步輻射X射線光刻技術(shù)是深亞微米、納米復雜圖形X射線衍射光學元件最為有效的先進加工方法之一。上述進展，將為X射線診斷技術(shù)的研究和發(fā)展提供有力支持；并能為光子晶體器件、分子電子器件等納電子器件的研究提供優(yōu)質(zhì)的技術(shù)服務。