重磅！中芯國際工藝獲重大進展！

  ICC訊 10月12日，中國一站式IP和定制芯片領軍企業(yè)芯動科技，宣布公司已完成全球首個基于中芯國際FinFET N+1先進工藝的芯片流片和測試，所有IP全自主國產(chǎn)，功能一次測試通過!

  芯動科技有限公司成立于2006年，是一家高端混合電路芯片設計公司，擁有自主全系列高帶寬高性能計算IP技術，曾多次在芯片先進工藝上填補國內(nèi)空白。

  2020年，芯動科技推出中國標準的INNOLINK Chiplet高性能計算平臺(CPU/GPU/NPU)，在各FinFET先進工藝上定制多款芯片，全部一次成功上量。

  在中芯國際N+1工藝尚待成熟的情況下，芯動科技的技術團隊投入數(shù)千萬元進行優(yōu)化設計，基于中芯國際N+1制程的首款芯片經(jīng)過持續(xù)數(shù)月、連續(xù)多輪的測試迭代，成功助力中芯國際突破N+1工藝良率瓶頸，向著實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)邁出了堅實一步。

  中芯國際是國內(nèi)規(guī)模最大、也是技術最先進的集成電路芯片制造企業(yè)，而N+1工藝是中芯國際在第一代先進工藝14nm量產(chǎn)之后的第二代先進工藝的代號。

  此前，中芯國際聯(lián)席CEO梁孟松博士曾介紹，與現(xiàn)有的14nm工藝相比，N+1工藝的性能提升20%，功耗降低57%，邏輯面積縮小63%，SoC面積減少55%。從邏輯面積縮小的數(shù)據(jù)來看，該工藝已與臺積電7nm相近。

  梁孟松博士表示，N+1代工藝在功耗及穩(wěn)定性上跟7nm工藝非常相似，但性能要低一些(業(yè)界標準是提升35%)，所以中芯國際的N+1工藝主要面向低功耗應用的。中芯國際后續(xù)將推出的N+2在功耗上與N+1表現(xiàn)差不多，但主要面向高性能，同時成本也會有所增加。

  在此前公布的2020年上半年財報當中，中芯國際曾表示，第二代先進工藝(N+1)進展順利，已進入客戶產(chǎn)品驗證階段。9月下旬，中芯國際再度對外回應稱，第二代FinFET N+1工藝已經(jīng)進入客戶導入階段，有望于2020年底小批量試產(chǎn)。

  結合相關報道，芯動科技是中芯國際N+1工藝的首批客戶，并有望年底試產(chǎn)。

  截至10月12日收盤，中芯國際漲11.47%，現(xiàn)報20.60港元，最新市值1186.51億港元。

  本文轉(zhuǎn)載自：中國半導體論壇