中國企業(yè)擬與尼康和佳能共同開發(fā)光刻機！

  ICC訊  據(jù)日經新聞指出，隨著美國的封鎖和打壓，從長遠來看，美國的封鎖反而可能會助推中國半導體產業(yè)的自立與發(fā)展。報道以美國限制華為、中芯國際的供應鏈為例指出，盡管有美國政府的出口限制，但中國半導體產業(yè)仍可迂回以對。

  中國有1000多家新興的半導體相關公司，如果華為和中芯國際從這些公司購買進口的半導體芯片、設計軟件以及生產設備，實際上就可以進行半導體采購并擴充制造設備。

  對此，Synopsis共同執(zhí)行長Aart de Geus表示，“在中國有很多半導體相關企業(yè)(除華為外)都在大量購買(設計軟件)?！边@種情況意味著無法避免中國國內的轉售。

  另外，日經指出，聯(lián)發(fā)科對美國的銷售額很少，該公司現(xiàn)在雖已停止對華為出貨，但也有可能會繼續(xù)接受華為的訂單并準備接受美國制裁。聯(lián)發(fā)科可以在不透露最終用戶詳細信息的情況下進行訂單生產，臺積電同樣可以。

  短期內，美國施行出口限制的效果仍然值得懷疑，而就中長期而言，貿易管制是否會讓美國、日本和歐洲繼續(xù)保持其半導體技術的優(yōu)勢，也還是一個未知數(shù)。

  更重要的是，與芯片平面上的精細化相比，3D堆疊技術正在成為延續(xù)摩爾定律的主角。基于此，光刻機已然成為影響全球科技競爭的又一大重大因素。

  目前，全世界只有荷蘭的ASML可以制造EUV光刻機。而大部分基礎技術的知識產權都由美國把持，因此荷蘭政府此前宣布不允許ASML向中國出口EUV設備。

  不過，若是EUV以外的光刻機，日本的尼康和佳能也可以制造。業(yè)界有關人士表示：“中國企業(yè)擬向兩家日本公司提供資金，要求共同開發(fā)除EUV以外的新型光刻機?！贝送?，中國政府也開始著手開發(fā)制造設備和設計軟件。

  值得一提的是，去年11月，日本半導體巨頭爾必達原社長坂本幸雄就職紫光集團的高級副總裁，引發(fā)業(yè)界熱議。除了技術攻堅，中國目前也不惜重金吸引資深半導體產業(yè)人士。

  本文轉載自：中國半導體論壇