擺脫日本壟斷！三星SDI或已開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠

  ICC訊 在半導(dǎo)體生產(chǎn)領(lǐng)域，韓國三星絕對是巨頭中的巨頭，然而巨頭有時候也受制于人，其中用于極紫外（EUV）光刻工藝的光刻膠材料，一直是這家巨頭的“軟肋”之一。曾經(jīng)在2019年，被日本企業(yè)限制供貨后，導(dǎo)致生產(chǎn)線停滯。

  為了擺脫這一限制，據(jù)外媒消息，三星SDI最近正在為其研究中心的光刻膠開發(fā)，引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設(shè)備，這也意味著三星終于開始朝著光刻膠材料進行攻克和研發(fā)了。

  據(jù)韓媒指出，三星SDI開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠的舉措將對韓國持續(xù)推進的材料國產(chǎn)化產(chǎn)生重大影響。

  實際上，在韓國當(dāng)?shù)兀珼ongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻膠供應(yīng)商一直在為本土化生產(chǎn)而努力。然而，許多行業(yè)專家指出，韓國需要投入更多的資金和人力成本，才能成為核心半導(dǎo)體材料的中心。

  行業(yè)分析人士指出，如果三星SDI進入該領(lǐng)域并大規(guī)模生產(chǎn)光刻膠，將大大增強韓國的半導(dǎo)體材料研究基礎(chǔ)設(shè)施。

  但三星SDI并未透露光刻膠開發(fā)計劃的啟動和完成時間。該公司僅表示，在完成光刻膠開發(fā)后，不僅將向三星電子提供新產(chǎn)品，還將向其他半導(dǎo)體公司及使用光刻膠的公司供貨。三星SDI的一位高管表示，“我們一直在開發(fā)各種類型的光刻膠，包括 EUV光刻膠?！辈贿^，光刻膠的商業(yè)化時間及具體細(xì)節(jié)還未敲定。

  實際上，熟悉半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的朋友都知道，在半導(dǎo)體制造的材料工藝方面，日本企業(yè)的先發(fā)優(yōu)勢和行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位，幾乎無可逆轉(zhuǎn)，畢竟以閃存為代表的眾多半導(dǎo)體工藝的創(chuàng)始企業(yè)，幾乎都來自日本。