打破日本壟斷 三星與韓國廠商合作開發(fā)成功EUV光刻膠

  ICC訊  EUV光刻工藝除了需要EUV光刻機之外，也需要配套的EUV光刻膠，目前這一市場也主要被日本廠商壟斷，現在三星與韓國半導體廠商東進合作開發(fā)成功EUV光刻膠，已經通過驗證。

  東進半導體19日宣布，近期通過了三星電子的EUV PR(光刻膠)可靠性測試。

  消息人士稱，東進半導體在其位于京畿道華城的工廠開發(fā)了EUV PR，并在三星電子華城 EUV生產線上對其進行了測試，并已通過可靠性測試。

  PR，也稱為光刻膠，是半導體曝光工藝中的關鍵材料。

  它應用于芯片上，當用半導體曝光設備照射光時，會發(fā)生化學反應并改變物理性質，通過用顯影劑沖洗掉PR來繪制微電路，只留下必要的部分。

  2019年，日本與韓國爆發(fā)爭議之后曾經限制三種重要的半導體材料對韓國的出口，EUV光刻膠就是其中之一，為此韓國公司也加快了EUV光刻膠的研發(fā)。

  雖然已經通過了測試，不過三星是否會在EUV生產線上立即使用東進半導體的EUV光刻膠還不確定，三星及東進拒絕表態(tài)。