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Intel芯片欲提升30% 5年內(nèi)趕超臺積電!

摘要:Intel今年在3月份就已經(jīng)宣布IDM 2.0戰(zhàn)略,芯片擴(kuò)產(chǎn)已經(jīng)迫在眉睫,據(jù)悉該計劃將在美國、歐洲、亞洲等地區(qū)建廠,以此來提升自己的產(chǎn)能目標(biāo)。

      ICC訊 Intel今年在3月份就已經(jīng)宣布IDM 2.0戰(zhàn)略,芯片擴(kuò)產(chǎn)已經(jīng)迫在眉睫,據(jù)悉該計劃將在美國、歐洲、亞洲等地區(qū)建廠,以此來提升自己的產(chǎn)能目標(biāo)。

      業(yè)內(nèi)資深人士預(yù)估,Intel此番大舉擴(kuò)張,預(yù)計在5年內(nèi),也就是2026年的時候產(chǎn)能將增長30%以上,有望追趕臺積電。

內(nèi)容來自:中關(guān)村在線
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關(guān)鍵字: Intel 芯片 臺積電
文章標(biāo)題:Intel芯片欲提升30% 5年內(nèi)趕超臺積電!
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