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擺脫日本壟斷!三星SDI或已開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠

摘要:據(jù)外媒消息,為擺脫日本企業(yè)的壟斷和封鎖,三星SDI最近為其研究中心的光刻膠開發(fā)引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設(shè)備。

 ICC訊 在半導(dǎo)體生產(chǎn)領(lǐng)域,韓國(guó)三星絕對(duì)是巨頭中的巨頭,然而巨頭有時(shí)候也受制于人,其中用于極紫外(EUV)光刻工藝的光刻膠材料,一直是這家巨頭的“軟肋”之一。曾經(jīng)在2019年,被日本企業(yè)限制供貨后,導(dǎo)致生產(chǎn)線停滯。

  為了擺脫這一限制,據(jù)外媒消息,三星SDI最近正在為其研究中心的光刻膠開發(fā),引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設(shè)備,這也意味著三星終于開始朝著光刻膠材料進(jìn)行攻克和研發(fā)了。

  據(jù)韓媒指出,三星SDI開發(fā)半導(dǎo)體光刻膠的舉措將對(duì)韓國(guó)持續(xù)推進(jìn)的材料國(guó)產(chǎn)化產(chǎn)生重大影響。

  實(shí)際上,在韓國(guó)當(dāng)?shù)?,Dongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻膠供應(yīng)商一直在為本土化生產(chǎn)而努力。然而,許多行業(yè)專家指出,韓國(guó)需要投入更多的資金和人力成本,才能成為核心半導(dǎo)體材料的中心。

  行業(yè)分析人士指出,如果三星SDI進(jìn)入該領(lǐng)域并大規(guī)模生產(chǎn)光刻膠,將大大增強(qiáng)韓國(guó)的半導(dǎo)體材料研究基礎(chǔ)設(shè)施。

  但三星SDI并未透露光刻膠開發(fā)計(jì)劃的啟動(dòng)和完成時(shí)間。該公司僅表示,在完成光刻膠開發(fā)后,不僅將向三星電子提供新產(chǎn)品,還將向其他半導(dǎo)體公司及使用光刻膠的公司供貨。三星SDI的一位高管表示,“我們一直在開發(fā)各種類型的光刻膠,包括 EUV光刻膠?!辈贿^,光刻膠的商業(yè)化時(shí)間及具體細(xì)節(jié)還未敲定。

  實(shí)際上,熟悉半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的朋友都知道,在半導(dǎo)體制造的材料工藝方面,日本企業(yè)的先發(fā)優(yōu)勢(shì)和行業(yè)領(lǐng)導(dǎo)地位,幾乎無(wú)可逆轉(zhuǎn),畢竟以閃存為代表的眾多半導(dǎo)體工藝的創(chuàng)始企業(yè),幾乎都來(lái)自日本。


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關(guān)鍵字: 日本 壟斷 三星 光刻
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